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UV清洗技术的应用范围

UV材料

UV清洗技术的应用范围

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    紫外光清洗技术的应用主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。

主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。

UV光照射,UV光源

    此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层,TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品,用于纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷同,差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质量与效率。